Исмаилов Т.А., Саркаров Т.Э., Шангереева Б.А.
Получение защитных пленок в производстве изготовления полупроводниковых приборов
Production of protective films for semiconductors manufacturing
УДК: |
621.382.002 |
Аннотация: |
В статье рассматриваются способы получения тонких защитных пленок для формирования элементов коммутации, резисторов, конденсаторов и контактных площадок. Сущность технологии получения пленки окиси ниобия (Nb2O5) заключается в том, что на поверхности подложки формируют тонкопленочный диэлектрик окиси ниобия при температурах 140-300 ?С осаждением из газовой фазы за счет реакции между пентахлоридом ниобия (NbCl5), кислородом O2 и закисью азота (NO). |
Ключевые слова: |
пленки, диэлектрик, осаждение, температура, газовая фаза, ниобий, окись, азот, пентахлорид, резистор, конденсатор, давление |
Abstracts: |
Ways of obtaining the thin protective films for formation of elements of switching, resistors, condensers and bonding contact pads are considered. The essence of technology of film production from niobium oxide (Nb2O5) is that superficially substrates form thin-film insulator of niobium oxide at temperatures 140-300 ?C with sedimentation from gas phase through reaction between niobium pentachloride (NbСl5), oxygen O2 and nitrogen protoxide (NO). |
Keywords: |
film, insulator, sedimentation, temperature, gas phase, niobium, oxide, nitrogen, pentachloride, resistor, condenser, pressure |
Авторы статьи:
ИСМАИЛОВ Тагир Абдурашидович |
доктор технических наук, профессор, ректор Дагестанского государственного технического университета академик Международной Академии Холода Российской Федерации, академик Международной Нью-Йоркской Академии наук, академик Международной Академии Информатизации |
САРКАРОВ Таджидин Экберович |
доктор технических наук, профессор Дагестанского государственного технического университета, декан ФИС |
ШАНГЕРЕЕВА Бийке Алиевна |
кандидат технических наук, старший преподаватель кафедры «Теоретической и общей электротехники» Дагестанского государственного технического университета |
Список литературы:
1. |
Научно-технический журнал «Электроника: Наука, Технология, Бизнес». РИЦ Техносфера. 2007. №2 С. 120. |
2. |
Черняев В.Н. Технология производства интегральных микросхем и микро-процессоров. М.: «Радио связь». 1987. C.464. |
3. |
Киреев В.А. Курс физической химии. М.: «Химия» 1975. С.620. |
4. |
Карапетьянц М.Х., Карапетьянц М.Л. Основные термодинамические константы неорганических и органических веществ. М.: «Химия» 1975. С.469. |
5. |
Карапетьянц М.Х. Химическая термодинамика. М.: «Химия» 1975. С.463. |
|
|